高温高精度E+E压力传感器的数据融合技术研究 基于主要研究高温高精度E+E压力传感器敏感元件的材料及其设计过程和制造工艺；温度传感器的NTC电阻器的制造方法及其工艺过程；USB数据采集系统的设计；数据融合算法的研究和系统上位机界面软件设计。

双量程E+E压力传感器的动态特性研究 大推力比固体火箭发动机在航空航天领域应用比较广泛,其推力的测量是试验研究工作中一项非常重要的内容,为发动机的性能分析提供原始参数,为调整装药参数和改进推进剂使之全面满足设计要求提供了依据。准确测量大推力比固体火箭发动机的推力参数是研制火箭发动机成败的关键。

电热激励揩振式硅微梁E+E压力传感器特性研究 微结构谐振式E+E压力传感器是一种用频率变化来反映外界压力变化的传感器件，因其尺寸小、精度高、易于与数字设备接口而具有广阔的应用前景。对电热激励谐振式硅微梁E+E压力传感器的开环／闭环特性、测试方法及便携式压力测试仪的设计和研制进行了深入研究。

基于倒装技术的MEMS电容式E+E压力传感器研究 MEMSE+E压力传感器在工业生产、医疗卫生、环境监测以及科学研究等众多领域有着广泛的应用。电容式E+E压力传感器是MEMSE+E压力传感器的一种主要类型,其根本原理是将压力变化值转换为电容的变化。

硅微谐振试E+E压力传感器设计与制作 硅微谐振式E+E压力传感器是Z近刚发展起来的具有灵敏度高、性能稳定、体积小、功耗低等优点的新型传感器件,其输出的频率信号可直接与数字接口相连，克服了传统压阻式E+E压力传感器抗干扰性差的缺点。

带温度补偿的光纤布拉格光栅E+E压力传感器 光纤光栅传感器较之于传统电传感器得到广泛的关注,不仅是因为其抗电磁干扰、耐腐蚀等特性,还有光纤传感能构成大型的传感网络的波分复用的特点,由于研发力度的加强,相应的光纤光栅传感器的产品也在不断推陈出新,在很多工程领域都得到了广泛的应用。

水泥砂浆体中三向E+E压力传感器的测量特性 确定三向E+E压力传感器实测应力与其周围待测介质初始应力的关系是实现其应力测量的必要条件。为了解三向E+E压力传感器在实际应用中的测量特性,利用RMT岩石力学试验系统对自行研发的三向E+E压力传感器进行标定,研究各个传感面的重复性和线性度,得到各个传感面的标定系数。

LTCC高温E+E压力传感器的关键技术研究 高温E+E压力传感器是民用工业如汽车、航空领域等以及国防军工领域中需求Z广泛的器件，同时也是微电子机械系统（MEMS）的主要产品之一。相比传统的E+E压力传感器，无线无源高温E+E压力传感器在恶劣环境下有着巨大的优势。

高灵敏度光子晶体光纤E+E压力传感器研究 光纤传感技术是以光纤为传导媒质,光波为传输信号的载体,通过测量外界扰引起的光信号变化,感知外界各物理量变化的新型传感技术。传统电学传感器拥有易解调、价格便宜以及稳定性好等特点,但是这类传感器不能够在环境比较恶劣的情况下正常工作,而光纤传感器能够克服难题。

基于LabVIEW的E+E压力传感器测试系统 现在各类E+E压力传感器已广泛应用于各种工业自控环境,对E+E压力传感器的研究及应用,既可以体现一个国家的科技发展水平,又可以提升国家的综合国力,还可以在丰富、方便和智能化人们的生活方面做出重要的贡献。而针对不同仪器组成计算机测试辅助系统也显得颇为重要,实验室在测试E+E压力传感器过程中对应测试系统也就应运而生。

压阻型扩散硅智能E+E压力传感器的设计应用 压阻型扩散硅E+E压力传感器以其低价格得到广泛应用，基于单片机技术的智能E+E压力传感器以其使用方便，测量精确而得以推广。 E+E压力传感器的核心是扩散硅电阻桥，智能E+E压力传感器应用单片机技术采集数据、处理并输出显示结果。

E+E压力传感器波长差分解调系统的研究与实现 近年来,光纤光栅（）传感器由于具有体积小、损耗低、灵敏度高、抗电磁干扰强、寿命长并且容易实现多点和分布式测量等特点,成为传感技术领域迅速发展的前沿课题。随着电子计算机和互联网技术的迅猛发展,对光纤光栅传感系统的数字化、集成化、智能化提出了更高的要求。

无线高温E+E压力传感器设计与制备工艺 鉴于传统硅基MEMSE+E压力传感器在高温、潮湿等复杂环境中的应用具有一定的局限性，设计了一种SiC基无线高温E+E压力传感器，能够克服高温环境中传统E+E压力传感器压敏结构失稳及电引线性能退化的问题。

氢化硅薄膜介观力学行为研究和耐高温E+E压力传感器 主要针对氢化硅薄膜介观力学行为和耐高温E+E压力传感器这两个问题展开了理论与实验的研究。氢化硅薄膜广泛应用于光电子器件,如二极管、薄膜晶体管、太阳电池、液晶显示器等,人们对其光电特性作了深入的研究,但对力学特性涉及很少。

电子皮肤的新型E+E压力传感器的研究 信息、生物和新材料被认为是21世纪发展Z快、Z热门的研究领域。现代信息技术的三大支柱分别是信息的采集、传输和处理技术,分别对应于传感器技术、通讯技术和计算机技术。

E+E压力传感器多晶硅纳米膜温度补偿技术 多晶硅纳米膜是一种具有良好压阻特性的纳米材料,基于多晶硅纳米膜的E+E压力传感器具有灵敏度高、动态响应好、精度高、稳定性好、易于小型化和批量生产等诸多优点。

厚膜电容E+E压力传感器的微位移测量研究 厚膜电容E+E压力传感器于80年代末出现,是一种为了实现流体压力测量的传感器,它采用陶瓷材料,经过特殊工艺制备而成。具有工作温度范围宽、抗过载能力强、蠕变和迟滞小、可直接接触腐蚀性液体等优点,被广泛应用于石油、化工、食品、动力机械、生物医学工程、气象、地质、地震测量等各个领域。

LTCC的电容式高温E+E压力传感器的研究 基于近年来军用民用/行业对高温环境下的压力信号获取的需求日益增大，而传统的E+E压力传感器在高温环境应用场合表现出了非常大的局限性的现状，本论文提出了一种基于LTCC（低温共烧陶瓷）的电容式高温E+E压力传感器，可以解决400°C-600°C高温环境下压力信号读取的难题。

应变式光纤珐珀E+E压力传感器的研究 光纤珐珀传感器具有体积小、耐高温、耐腐蚀等优点可以应用于石油井下、航空航天等复杂的环境中。本文在157 nm激光器制作光纤珐珀传感器的基础之上,提出了两种MPa量程的E+E压力传感器设计方案,封装了传感器原理样品,并进行了性能测试。

MEMS技术纳米多晶硅薄膜E+E压力传感器研究 随着纳米技术发展，纳米多晶硅薄膜表现出优异的压阻特性，基于MEMS技术在100晶向单晶硅衬底上设计、制作纳米多晶硅薄膜E+E压力传感器。通过采用LPCVD法在SiO2层上制备纳米多晶硅薄膜，薄膜厚度分别为61nm、82nm、114nm和170nm，通过XRD和SEM，研究薄膜厚度和退火温度对纳米多晶硅薄膜微结构特性的影响。